大尺寸等离子体增强原子层沉积系统
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13/人使用者
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667/次机时次数
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635.27/小时总时长
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0/次送样次数
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26/人收藏者
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收费标准
机时院内：600元/小时；院外：1000元/小时；培训费：1000/人 -
设备型号
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当前状态
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管理员
李威,高岚,刘馨悦 -
放置地点
芯片加工中心二期1F
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
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名称
大尺寸等离子体增强原子层沉积系统
资产编号
0000
型号
规格
产地
厂家
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
深圳国际量子研究院
使用性质
科研
所属分类
镀膜类
资产负责人
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联系电话
联系邮箱
放置地点
芯片加工中心二期1F
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
尺寸等离子体增强原子层沉积设备可以进行多种薄膜材料原子层沉积工艺。除了常规热ALD工艺外，支持臭氧工艺，而且设备配置了功率最高300W的等离子体源，可以进行等离子体增强原子层沉积（PE-ALD）工艺。设备具备在线自动惰性气体净化功能，有效避免管路污染；可集成Load Lock、Glove Box、TM及用户集群设备；设备成熟可靠，操作安全便捷。推荐样品尺寸为8英寸，配备了8寸样品托盘，可以放置小于8寸样品。
主要功能及特色
设备具备6条独立的源管路，其中除气态源无单独压力计外，每条管路配置了限流垫片和压力计传感器，可以控制通入气体流量和监测管道压力。可以同时接入三组液态源，两组固态加热源、以及一组气态源配置。同时，设备组件进行简单的更换就可在热法工艺与等离子体增强工艺之间切换，以满足不同的工艺需求。可以满足多种薄膜材料（Al2O3;HfO2）沉积需求。
样本检测注意事项
禁止磁性样品进入
设备使用相关说明
1000/h
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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