紫外曝光机
-
19/人使用者
-
346/次总次数
-
814/小时总时长
-
8/人收藏者
-
收费标准
机时600元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
-
当前状态
-
管理员
贾浩,王浩宇 13612940339 -
放置地点
芯片加工中心二期1F
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
紫外曝光机
资产编号
18045736S
型号
规格
产地
厂家
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
深圳国际量子研究院
使用性质
科研
所属分类
光刻类
资产负责人
黄家祥
联系电话
13612940339
联系邮箱
huangjx@mail.sustech.edu.cn
放置地点
芯片加工中心二期1F
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
光强：15mw/cm2 （波长 365nm时）
光强均匀性：≤±2.5%（150mm 基片）
对准精度：正面 ≤ ±0.5µm，背面 ≤ ±1µm。真空接触曝光精度 ≤0.8µm; 硬接触精度 ≤1µm; 软接触精度 ≤ 2µm; 接近式曝光精度 ≤ 2.5µm (1µm光刻胶条件下)。
光强均匀性：≤±2.5%（150mm 基片）
对准精度：正面 ≤ ±0.5µm，背面 ≤ ±1µm。真空接触曝光精度 ≤0.8µm; 硬接触精度 ≤1µm; 软接触精度 ≤ 2µm; 接近式曝光精度 ≤ 2.5µm (1µm光刻胶条件下)。
主要功能及特色
UV400微光学系统，紫外光波长：350nm～450nm,微光学系统MOEO为SUSS在的瑞士子公司SUSS MicroOptics研发制造, 是SUSS的专利产品。基片找平方式：自动找平，侧向锁定方式，找平时3小球隔离掩膜板与基片，减少掩膜板沾污。掩模版架，2寸开孔（可放置2.5寸~4寸版），4寸开孔（可放置5寸~6寸版），6寸开孔（可放置7寸版）的掩膜版夹具各一个，都配置3陶瓷小球隔离接近式找平，陶瓷小球直径2毫米，精度±1um。
预约资源
检测项目
附件下载
公告
同类仪器
