无掩模激光直写机
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3308/小时总时长
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44/人收藏者
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收费标准
机时500元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
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当前状态
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管理员
王浩宇 贾浩 -
放置地点
芯片中心一期南科大慧园3栋106
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
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名称
无掩模激光直写机
资产编号
17137743S
型号
规格
产地
德国
厂家
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
深圳国际量子研究院
使用性质
科研
所属分类
光刻类
资产负责人
贾浩
联系电话
联系邮箱
放置地点
芯片中心一期南科大慧园3栋106
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
最大加工尺寸：200x200 mm；
最大曝光高度：≤8mm；
激光波段：405nm；
激光能量：0至300mW;
最小线宽：≤600nm;
套刻对准精度：≤300nm;
双面套刻对准精度：≤1um;
最大曝光高度：≤8mm；
激光波段：405nm；
激光能量：0至300mW;
最小线宽：≤600nm;
套刻对准精度：≤300nm;
双面套刻对准精度：≤1um;
主要功能及特色
无掩模激光直写机利用紫外激光（405nm）通过空间光调制器和光学扫描器技术实验直写光刻，利用高精密HeNe氦氖激光干涉仪来精准的控制平台的移动，省去了繁琐的掩模加工过程，本激光直写机曝光速度和精度实现多种模式可调，最佳分辨率优于600nm。相比掩模光刻，具有效率高，应用灵活等特点。用于亚微米尺寸级别的微纳结构制造，也可应用于集成电路的掩模版制作。
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检测项目
附件下载
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