双倾角电子束蒸发镀膜系统

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收费标准

机时
800元/小时
送样
详见检测项目

设备型号

当前状态

管理员

黄家祥,聂利富

放置地点

芯片加工中心二期2F
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名称

双倾角电子束蒸发镀膜系统

资产编号

18043587S

型号

规格

产地

厂家

所属品牌

出产日期

购买日期

所属单位

深圳国际量子研究院

使用性质

科研

所属分类

镀膜类

资产负责人

聂利富

联系电话

联系邮箱

放置地点

芯片加工中心二期2F
  • 主要规格&技术指标
  • 主要功能及特色
  • 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
具有双腔式设计,进样腔室和电子束蒸 发源腔室通过超高真空闸板阀分隔,最 高本底真空可以达到5x10-10 Torr; 配置有四坩埚电子枪,6kW固态电源, 最高加速电压可到10kV,发射电流最大 600mA; 配置了一只考夫曼离子源KDC40,可以 进行原位的样品表面清洗和刻蚀; 最大样品直径:4英寸;
主要功能及特色
在高真空下,电子枪灯丝加热后发射热电子,被加速阳极加速,获得较大的动能轰击到的蒸发材料上,动能转化成热使蒸发材料加热气化,而实现 蒸发镀膜。通过调节电子束的功率,可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率 ,特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。 该设备可以进行Ti/Au/Al/Cr/SiO2/Al2O3等多种金属和氧化物材料薄膜沉积。
设备使用相关说明
样品不含Fe、Co、Ni、Mn等磁性元素;
干燥固态、薄膜。
样品直径≤4英寸(101.6mm)
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