电子束光刻直写机
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10/人使用者
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750/次总次数
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4327/小时总时长
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9/人收藏者
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收费标准
机时1500元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
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当前状态
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管理员
贾浩,王乙妃 -
放置地点
芯片中心一期南科大慧园3栋106
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
电子束光刻直写机
资产编号
18008397S
型号
规格
产地
厂家
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
深圳国际量子研究院
使用性质
科研
所属分类
光刻类
资产负责人
贾浩
联系电话
联系邮箱
放置地点
芯片中心一期南科大慧园3栋106
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
加速电压：125kV;
最小线宽：≤8nm;
束流范围：50pA至15nA;
扫描速度：100MHz;
写场尺寸：100um²，500um²；
拼接及套刻精度：≤10nm;
曝光面积：5mm²-210mm²；
SEM功能：双通道SED，BSD，最大放大倍数20万倍，具备图形分析软件
具备动态聚焦消像散功能.
微信预约
最小线宽：≤8nm;
束流范围：50pA至15nA;
扫描速度：100MHz;
写场尺寸：100um²，500um²；
拼接及套刻精度：≤10nm;
曝光面积：5mm²-210mm²；
SEM功能：双通道SED，BSD，最大放大倍数20万倍，具备图形分析软件
具备动态聚焦消像散功能.
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主要功能及特色
电子束光刻直写机利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，本电子束光刻机能够实现125千伏加速电压的选择，最小束斑尺寸优于1.7nm，图形最小线宽达到8nm，场拼接精度优于10nm，配备自动(消像散的功能，能够曝光出几纳米至数十纳米尺度的量子芯片结构，及对光刻图形的及时观测。
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